- 产品描述
- 技术指标
- 应用案例
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产品型号：
MS-200
产品简介：
MS-200磁控溅射系统是一款小型台面式溅射系统，具有高真空、单原子层沉积精度的特点，可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配1个2英寸超高真空阴极。满足简单的材料研究需求。
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晶圆尺寸
4inch向下兼容
镀膜均匀性
±2%
极限真空
1×10-8mbar
温控
RT-800℃
阴极数量
1个2inch或3个1inch
电源
DC、RF、DC Pulse
沉积精度
0.1nm
占地面积
1.5m L*1m W*1.5m H
可选
进样室、反应溅射、工艺菜单等
科研级磁控溅射系统
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