- 产品描述
- 技术指标
- 应用案例
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产品型号：
MS-300
产品简介：
MS-300磁控溅射系统具有超高真空、单原子层沉积精度的特点，可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配3个2英寸超高真空阴极。满足实验室中科学研究的需求，维护简单，运行稳定。
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晶圆尺寸
4inch向下兼容
镀膜均匀性
±2%
极限真空
1×10-8mbar
温控
RT-800℃
阴极数量
3个2inch
电源
DC、RF、DC Pulse
沉积精度
0.1nm
占地面积
2m L*1.5m W*2m H
可选
低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、等离子体分析仪等
科研级磁控溅射系统
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