- 产品描述
- 技术指标
- 应用案例
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产品型号：
PLD-400
产品简介：
脉冲激光沉积系列设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。PLD-400型脉冲激光沉积设备，标配6个1 inch靶材，靶材可以原位更换，配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。
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晶圆尺寸
2inch
极限真空
5×10-9mbar
温控
RT-1200℃
靶台数量
6个1inch 靶材，公自转设计
靶材更换
原位更换靶材
激光源
可选准分子激光器
常用材料
BFO、SRO、VO2等
占地面积
3m L*2m W*2m H
可选
低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等
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客户案例
氧化钒羽辉（上）和金属Co羽辉（下）。
在Al2O3（0001）衬底上制备不同厚度的氧化钒薄膜的XRD结果图。
在STO（002）衬底上制备的[(LSMO)m/(BTO)n]N/STO超晶格的XRD结果图。
脉冲激光沉积系列
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